氧化鋁陶瓷坩堝滿足半導體等新興領域對潔凈與界面控制的需求
2026-01-30
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氧化鋁陶瓷坩堝是以高純α-氧化鋁為原料，經高溫燒結而成的高性能實驗室與工業用耐火容器，憑借良好的耐高溫性、化學惰性與熱穩定性，成為熔融、灼燒、灰化及高溫反應中的載體。氧化鋁陶瓷坩堝性能遠超石英、剛玉或金屬坩堝，在材料合成、貴金屬提純及分析化學領域備受青睞。
一、核心性能優勢
超高耐溫：
可長期使用于1600℃以下，短期承受1750℃高溫，遠高于石英（約1100℃）和普通陶瓷；
強化學惰性：
對酸、堿、熔鹽及多數金屬熔體（如金、銀、銅、鉍）幾乎無反應，避免樣品污染；
低熱膨脹系數；
抗熱震性優異，可承受快速升降溫（如從1000℃投入室溫水中不裂），適用于程序控溫實驗；
高純低析出：
雜質含量低，確保痕量分析（如ICP-MS）結果不受干擾。
二、典型應用場景
分析化學：
用于樣品灰化（如食品、生物組織）、硫酸鹽灰分測定（ASTMD482）及XRF熔片制備；
材料合成：
高溫固相反應、單晶生長、熒光粉燒結等需潔凈環境的工藝；
冶金與貴金屬：
金、鉑等貴金屬熔煉與提純，因其不潤濕、不合金化；
半導體與電子：
高純氧化物前驅體煅燒，避免金屬離子污染。
三、規格與選型要點
純度分級：
95%Al2O3適用于一般高溫作業；99.5%以上用于高純或半導體領域；
形狀多樣：
常見高型、扁型、帶嘴、帶蓋等，容量從5mL至500mL可選；
壁厚設計：
厚壁型抗機械沖擊強，薄壁型升溫快、熱響應靈敏。
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